一、產(chǎn)品介紹

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)由摩方精密自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前非常具有前景的微尺度加工技術(shù)之一。

二、基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學(xué)精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復(fù)陣列模式）

文件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應(yīng)用領(lǐng)域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域

四、企業(yè)簡介

摩方精密（BMF,Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技術(shù)及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發(fā)，提供制造復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)技術(shù)解決方案，同時(shí)，可結(jié)合不同材料及工藝，實(shí)現(xiàn)終端產(chǎn)品高效、低成本批量化生成及銷售。